After SUN Cream Mask

Tiszta hidratálás a napkárosodott bőrnek

Ez a hűsítő, tápláló arckrémmaszk intenzíven ápolja a napfény által igénybe vett bőrt, amely használata után teltebbnek, simábbnak és frissebbnek tűnik.

Enyhíti a napégés és a frissen lebarnult bőr kellemetlen tüneteit.
Nyugtatja a bőrt, és kellemesen puha, selymes érzetet biztosít.
Segít csökkenteni a napsugárzás okozta finom vonalak és ráncok megjelenését.

Használat

Napozás után alaposan távolítsa el a fényvédő maradványait. Vigye fel bőségesen az After SUN Cream Mask krémmaszkot az arcra és a nyakra, ügyelve arra, hogy a szemkörnyéket elkerülje. Hagyja hatni körülbelül 20 percig, majd langyos vízzel vagy kozmetikai kendő segítségével távolítsa el. Ezt követően használja az After SUN Face arckrémet vagy az Ön számára ajánlott MBR® bőrápoló készítményeket.

Összetevők: AQUA (WATER), CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, PENTYLENE GLYCOL, GLYCERIN, MACADAMIA TERNIFOLIA SEED OIL, TOCOPHERYL ACETATE, COCONUT ALKANES, SQUALANE, BEHENYL ALCOHOL, CETEARYL ALCOHOL, POTASSIUM CETYL PHOSPHATE, FRUCTOOLIGOSACCHARIDES, PANTHENOL, BETA VULGARIS (BEET) ROOT EXTRACT, HYDROGENATED PALM GLYCERIDES, MENTHYL LACTATE, SOYBEAN GLYCERIDES, INOSITOL, HYDROXYACETOPHENONE, PHENOXYETHANOL, COCO-CAPRYLATE/CAPRATE, BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER UNSAPONIFIABLES, XANTHAN GUM, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE), POTASSIUM LACTATE, HYDROGENATED RAPESEED OIL, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, TRIPLEUROSPERMUM MARITIMUM EXTRACT, LACTIC ACID, SODIUM HYDROXIDE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, MENTHOL, SODIUM COCOYL GLUTAMATE, TOCOPHEROL, ALCOHOL, CITRIC ACID, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL, SILICA, ALUMINUM HYDROXIDE, ASCORBYL PALMITATE, ASCORBIC ACID. (118.3)